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dc.contributor.advisorMass Varela, Julio
dc.contributor.authorCuervo Chacón, Melba Isabel
dc.date.accessioned2019-10-03T22:41:05Z
dc.date.available2019-10-03T22:41:05Z
dc.date.issued2012
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10584/8652
dc.descriptionEn este trabajo se desarrolla una técnica mejorada de texturización de la superficie de substratos de silicio multicristalino (mc-Si) tipo p, investigando la morfología de la superficie de silicio bajo diferentes condiciones de ataque, se estudian los defectos presentes en las muestras, prestando especial atención a las técnicas de ataque que reducen los defectos en la superficie y al revelado de los defectos subyacentes en ella. Se obtuvo una textura de estructura regular insensible a la orientación cristalográfica aleatoria de los diferentes granos. Para el revelado de los defectos en este tipo de obleas de silicio se emplearon técnicas de ataque químico empleadas en silicio cristalino. Una vez realizado el proceso de ataque, las obleas fueron caracterizadas ópticamente a nivel de la superficie empleando técnicas de microscópia óptica y electrónica. Por otro lado se caracteriza mediante técnicas espectroscópicas (espectroscopia Raman y Ultravioleta Visible UV) determinando así la calidad del texturizado en las obleas una vez realizados los ataques. Inicialmente se realiza un estudio de la teoria del silicio, sus propiedades ópticas y defectos, posteriormente se describe el principio de funcionamiento de las celdas solares basadas en silicio. Las formas establecidas para la fabricación de células solares de silicio de alta eficiencia, el mecanismo de texturizado y el papel de las soluciones y productos de reacción en la morfología superficial. Luego se describen los métodos de caracterización óptica empleados, las técnicas y tratamientos para el revelado de defectos, fronteras de grano y texturizado de las obleas y se hace una descripción de la metodología empleada para el revelado y caracterización de defectos, fronteras de grano y texturizado de las muestras.es_ES
dc.formatapplication/pdfes_ES
dc.language.isospaes_ES
dc.publisherUniversidad del Nortees_ES
dc.subjectFisicoquímicaes_ES
dc.subjectEfecto Ramanes_ES
dc.subjectAnálisis espectrales_ES
dc.titleAnálisis microscópico y espectroscópico de técnicas de texturización superficial en silicio multicristalinoes_ES
dc.typemasterThesises_ES
dc.rights.accessRightsopenAccesses_ES
dc.type.hasVersionacceptedVersiones_ES
dc.publisher.programMaestría en Física Aplicadaes_ES
dc.publisher.departmentDepartamento de Física y Geocienciases_ES
dc.creator.degreeMagíster en Física Aplicadaes_ES


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